Polo bambina da concorso slim fit anti raggi UV | Abbigliamento | Polo da Competizione | Equestro Mantenimento New Essentials Jumping Stud Sottopancia

New Essentials Jumping Stud Sottopancia Fluffy

consentendo un continuo ricircolo d'aria

Salicilato

embossed paint to better hold the fabric headgear

Polo bambina da concorso slim fit anti raggi UV | Abbigliamento | Polo da Competizione | Equestro Mantenimento New Essentials Jumping Stud SottopanciaPolo bambina slim fit a manica lunga da concorso in tessuto tecnico, semplice e raffinata. Massimo comfort, ottima vestibilit e un particolare tessuto che protegge interamente dai raggi UV. Elasticizzata e traspirante, la polo pensata soprattutto per i pi piccoli. Presenta una chiusura zip con sistema antivento e colletto alla coreana in cotone impreziosita dal logo Equestro. Perfetta per Polo da Competizione Disponibile da Equestro Keywords: Girl,